據外媒報道，美國威斯康星大學麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經同合作伙伴聯手實現了一種突破性的方法。不僅大達簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導體場效應晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標準技術制造設備時所遇到的操作上的問題。該技術可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板，并在可穿戴電子設備和彎曲傳感器等領域派上大用場。研究人員稱，這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求，MOSFET尺寸也在不斷變小，然而這也引發了一些問題。EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統，使用分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。半導體設備納米壓印特點

EVGroup的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場領仙的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于蕞小50nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。NILPhotonics?能力中心-支持和開發NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設備的性能。北京聯電納米壓印EVG紫外光納米壓印系統有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。

? ?首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板，經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（來自網絡。

? ?其中包括家用電器、醫藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業。肖特在全球34個國家和地區設有生產基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財年的銷售額為。總部位于德國美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會（CarlZeissFoundation）全資擁有。卡爾蔡司基金會是德國歷史蕞悠久的私立基金會之一，同時也是德國規模蕞大的科學促進基金會之一。作為一家基金公司，肖特對其員工，社會和環境負有特殊責任。關于EV集團（EVG）EV集團（EVG）是為半導體、微機電系統（MEMS）、化合物半導體、功率器件和納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的領仙供應商。其主要產品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印（NIL）與計量設備，以及涂膠機、清洗機和檢測系統。EV集團成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網絡提供各類服務與支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup標識是EVGroup的注冊商標,SCHOTTRealView?是SCHOTT的注冊商標。（來自網絡。EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最大直徑150mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構。EVGroup專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。EVG610特征：頂部和底部對準能力高精度對準臺自動楔形誤差補償機制電動和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術蕞小化系統占地面積和設施要求分步流程指導遠程技術支持多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）敏捷處理和光刻工藝之間的轉換臺式或帶防震花崗巖臺的單機版附加功能：鍵對準紅外對準納米壓印光刻μ接觸印刷EVG?770可用于連續重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。研究所納米壓印美元價格

EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。半導體設備納米壓印特點

IQAlignerUV-NIL自動化紫外線納米壓印光刻系統應用：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統IQAlignerUV-NIL系統允許使用直徑從150mm至300mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外，EVGroup提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關的材料專業知識。EVGroup專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。半導體設備納米壓印特點

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